多晶硅生產中需要什么樣的噴漆廢氣處理

 

在多晶硅生產中，會產生一些廢氣和殘液。目前，我***的噴漆廢氣處理已達到先進水平，以往的處理技術已提高到更高的水平。

多晶硅是太陽能和微電子工業的關鍵原料。隨著我***太陽能產業的快速發展，對多晶硅的需求日益增加。目前，多晶硅技術處于前所未有的活躍狀態。主要有西門子法、冶金法、等離子體法、硅烷法、流化床法、熔鹽電解法、無氯技術等。西門子法通過氣相沉積法制備柱狀多晶硅。為提高原料利用率，采用閉環生產工藝。改進后的西門子工藝生產的多晶硅約占世界多晶硅產能的80%。

***內外對西門子法制備高純多晶硅的研究較多。例如，張宇等人通過催化化學氣相沉積法制備了多晶硅薄膜。采用m. m. dahl等對流化床中多晶硅的微觀結構和顆粒生長進行了研究。此外，多晶硅的生產工藝包括碳熱還原法、區域熔融法等。碳熱還原法是利用高純碳還原硅生產多晶硅，區域熔融法是利用金屬定向凝固原理將金屬級硅提純到太陽能級硅。

廢氣及殘液處理

在多晶硅的制備過程中，產生了***量的廢氣和廢液。***內***部分裝置通常先用水水解，然后用氫氧化鈉中和廢氣處理和殘液處理。

廢氣凈化

氯硅烷分離純化過程中蒸餾塔排放的廢氣含有氯硅烷、氮、硅烷、氫、氮、氯、氯化氫的多晶硅還原爐更換清洗氣體和多晶硅還原爐排放瓦斯事故,被送到廢氣洗滌器組,()在鹽酸溶液洗滌水、廢氣的氯硅烷與水反應和刪除:

SiHCl3 + 2h2o = SiO2 + 3hcl + H2

SiCl4 HCL + 2 h2o = SiO2 + 4

SiH2Cl2 + 2h2o = SiO2 + 2hcl + H2

廢氣處理塔***部含氮、氫的廢氣經液封罐排出，廢氣處理塔底部含SiO2固體的鹽酸溶液泵入工藝廢水處理過程。